Поиск на сайте: Расширенный поиск


Новые программы oszone.net Читать ленту новостей RSS
CheckBootSpeed - это диагностический пакет на основе скриптов PowerShell, создающий отчет о скорости загрузки Windows 7 ...
Вы когда-нибудь хотели создать установочный диск Windows, который бы автоматически установил систему, не задавая вопросо...
Если после установки Windows XP у вас перестала загружаться Windows Vista или Windows 7, вам необходимо восстановить заг...
Программа подготовки документов и ведения учетных и отчетных данных по командировкам. Используются формы, утвержденные п...
Red Button – это мощная утилита для оптимизации и очистки всех актуальных клиентских версий операционной системы Windows...
OSzone.net Новости Hardware Израильская фабрика Intel может первой перейти на 10 нм RSS

Израильская фабрика Intel может первой перейти на 10 нм

Текущий рейтинг: 4.5 (проголосовало 10)
 Посетителей: 1518 | Просмотров: 1620 (сегодня 0)  Шрифт: - +

Компания Intel владеет далеко не одним предприятием, занятым производством микропроцессоров компании по всему миру. Завод в Израиле в настоящее время занят выпуском чипов Ivy Bridge по 22 нм технологическому процессу. Далее в этом году он постепенно будет переходить на производство чипов Haswell. Выпуск процессоров Broadwell по 14 нм технологии здесь осуществлять не планируется: вместо этого производственные мощности будут подготавливаться сразу к 10 нм чипам.

В прошлом году переход на данном предприятии с 28 нм технологического процесса на 22 нм позволил увеличить прибыль до $4,6 млрд. против $2,2 млрд. годом ранее. По словам генерального менеджера Intel Israel Максина Фассберга (Maxine Fassberg), средняя продолжительность жизненного цикла одного технологического процесса составляет от двух до шести лет, поэтому решения по поводу 10 нм технологии пора принимать уже сейчас.

*

10 нм технологический процесс станет значительным этапом в жизни компании Intel. Он будет последним, использующим современные методы производства, или же, возможно, первым, использующим метод фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Также, с этой технологии может быть начат переход на использование 450 мм кристаллических пластин.

Автор: Алексей Алтухов  •  Иcточник: xbitlabs.com  •  Опубликована: 19.02.2013
Нашли ошибку в тексте? Сообщите о ней автору: выделите мышкой и нажмите CTRL + ENTER
Теги:   Intel, процессоры.


Оценить статью:
Вверх
Комментарии посетителей
Комментарии отключены. С вопросами по статьям обращайтесь в форум.